Patrón: Sigue las Reglas fue una exposición colectiva que redefinió y reimaginó los términos patrón y decoración . Para crear la obra, cada uno de los artistas comenzó con un sistema o conjunto de reglas (mecánicas, tecnológicas, digitales o de otro tipo) y a través de la acción repetitiva, creó objetos que son rigurosos en su repetición óptica. Los artistas generaron formas utilizando un marco más parecido a un patrón matemático o informático que a un proceso visual decorativo. Las composiciones resultantes son altamente decorativas, visualmente dinámicas y espectacularmente estampadas en el sentido tradicional del término. Sin embargo, los límites implícitos de la elección artística en estas obras no obstaculizan la creatividad. Más bien, la dependencia de un sistema predeterminado de producción crea una sensación de infinitud potencial, planteando preguntas sobre la distancia entre la realidad y la ilusión visual. Independientemente del modo de creación o del contenido dentro de la forma, cada obra de la exposición nos pide que reevaluemos la forma en que vemos y experimentamos los espacios en los que estamos, los objetos que confrontamos y la relación entre visión y percepción.

La exposición incluyó obras de arte de Walead Beshty (n. 1976, Londres), Teresita Fernández (n. 1968, Miami), Mark Grotjahn (n. 1968, Pasadena, California), Zilvinas Kempinas (n. 1969, Plunge, Lituania), Jason Middlebrook (n. 1975, Jackson, Michigan), Mai-Thu Perret (n. 1976, Ginebra, Suiza), Ara Peterson (n. 1973, Boston, Massachusetts), Hugh Scott-Douglas (n. 1988, Cambridge, Reino Unido), Alyson Shotz (n. 1964, Glendale, Arizona), Rudolf Stingel (n. 1956, Murano, Italia), Tam Van Tran (n. 1966, provincia de Kon Tum, Vietnam), Garth Weiser (n. 1979, Helena, Montana), Pae White (n. 1963, Pasadena, California) y Christopher Wool (nacido en 1955, Chicago).